EDI超純（chún）水係統

超純水係統,EDI超純水係統, 混床（chuáng）超純水係統出水（shuǐ）水質符合美國（guó）ASTM純（chún）水水質標準、我國（guó）電子工業部電子級水質技術標準（18.2MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業（yè）部高純（chún）水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標（biāo）、日本集成電路水質標準、國內外大規模集（jí）成電（diàn）路水質標準。

超純水係統超純水製（zhì）備技術發展史（shǐ）：

超純水（shuǐ）係統第一代：預處理 -陽床-陰床-混床

超（chāo）純水係統（tǒng）第二代（dài）：預處理 -反滲透-混床

超（chāo）純水係統第三代：預處理 -反滲透-電去離（lí）子（EDI）

陽床（chuáng）-陰（yīn）床-混床離子交換設備:

離子交（jiāo）換設備（bèi）是利（lì）用陰、陽離子交換樹脂的交換吸附性能，去除水（shuǐ）中的各種陰、陽離子，達到去離（lí）子的目的，離子交換設備按單台設備分類，可分為陰床、陽床、混床。在水處（chù）理（lǐ）應用中，由陽床、陰床單（dān）組或陣（zhèn）列裝置而成（chéng），後置混合離子交換（huàn）器，能得到更高純度的産出（chū）水，具有投資節省、工業成熟等特點。離子交換設備是製備高純水的必要設備，廣泛應用於電子、電鍍（dù）、鍋爐用水等領域，與RO、EDI設備組合後水質的電阻率可達到18.2MΩ.CM.

反滲透+EDI超純水設備：

反滲透裝置去除水中的溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，然後使（shǐ）用連續電除鹽裝置進行（háng）深度脫鹽，使産水電阻（zǔ）率（lǜ）達到15MΩ.cm以上，再采用電子級純水樹脂精混床精除鹽，使産水電阻率達到18.2MΩ.cm，後（hòu）處理采用紫外線殺菌（jun1）器和精（jīng）密過濾器（qì）隔絕細菌的二次汙染，産（chǎn）水可達到國家電子級水（shuǐ）的技（jì）術指標GB 11446.1-1997。

新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示（shì）屏、高品（pǐn）質燈管顯像管、微電（diàn）子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模（mó）、超大（dà）規模集成電路需用（yòng）大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成（chéng）電路的集成度越高（gāo），對水質的要求也越高，這也對超純水處（chù）理工藝及產品（pǐn）的簡（jiǎn）易性、自動化程度、生產的（de）連續性、可持續性等提（tí）出了更加嚴格的要求。

超純水係統,EDI超純水係統, 混床超純水係統應用場合：

☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

☆電子管生（shēng）產、電子管陰極（jí）塗敷碳酸鹽配液

☆顯（xiǎn）像管和（hé）陰極射線（xiàn）管生產、配料用純水

☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

☆液晶顯示器的生產、屏麵需用純（chún）水清洗和用純（chún）水配液

☆晶體管（guǎn）生產中主要用於清洗（xǐ）矽片，另有少量用於藥液配製

☆ 集成電路生產中高純水清洗矽片（piàn）

☆半導（dǎo）體材料、器件、印刷電路板和集成電路

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子（zǐ）顯示屏

☆高品質顯像管、螢光粉生產

☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清（qīng）洗

☆超（chāo）純材料和（hé）超純化學試劑、超純化工材料

☆實驗室和中試車間　　

☆汽車（chē）、家電表麵拋光處理

☆光（guāng）電產品、其他高科技精微產品